发明名称 Proben-Überwachungsverfahren, Proben-Vorbereitungsverfahren und Ladungspartikelstrahl-Vorrichtung
摘要 Ein Proben-Beobachtungsverfahren umfasst: ein Platzieren einer Probenstufe bei einem ersten Neigungswinkel mit Bezug auf einen Ladungspartikelstrahl, und ein Bestrahlen von einer Beobachtungsfläche einer Probe mit dem Ladungspartikelstrahl, um ein erstes Ladungspartikel-Bild zu erlangen; ein Neigen der Probenstufe auf einen zweiten Neigungswinkel, welcher sich vom ersten Neigungswinkel unterscheidet, um eine erste Probenstufen-Achse, und ein Bestrahlen der Beobachtungsfläche mit dem Ladungspartikelstrahl, um ein zweites Ladungspartikel-Bild zu erlangen; ein Neigen der Probenstufe auf einen Neigungswinkel, bei welchem ein Bereich der Beobachtungsfläche in dem erlangten Ladungspartikel-Bild zwischen dem ersten Ladungspartikel-Bild und dem zweiten Ladungspartikel-Bild größer ist; und ein Bestrahlen der Beobachtungsfläche mit dem Ladungspartikelstrahl, um die Beobachtungsfläche zu beobachten.
申请公布号 DE102013102669(A1) 申请公布日期 2013.09.26
申请号 DE201310102669 申请日期 2013.03.15
申请人 HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION 发明人 MAN, XIN;UEMOTO, ATSUSHI
分类号 H01J37/26;G01N1/28 主分类号 H01J37/26
代理机构 代理人
主权项
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