发明名称 |
低释气性光阻组合物 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI493290 |
申请公布日期 |
2015.07.21 |
申请号 |
TW098129915 |
申请日期 |
2009.09.04 |
申请人 |
万国商业机器公司 |
发明人 |
迪皮崔欧 理查A;史欧雷亚库玛雷 雷那;史华森 莎莉A;崔欧 欧艾D |
分类号 |
G03F7/039;C08F20/66;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种包含具有下式之重复单元的聚合物:
其中Z表示聚合物主链之重复单元;X为选自由以下组成之群之键联基团:伸烷基、伸芳基、伸芳烷基、羰基、羧基、羧基伸烷基、氧基、氧基伸烷基及其组合;且R系选自由以下组成之群:氢、烷基、芳基及环烷基;其限制条件为X与R不为同一环系统之一部分;且包含至少一个具有一或多个官能基之其他重复单元,该等官能基选自由苯酚、氟醇、内酯、酸酐、醇基、磺醯胺基团及酸不稳定基团组成之群。 |
地址 |
美国 |