发明名称 低释气性光阻组合物
摘要
申请公布号 TWI493290 申请公布日期 2015.07.21
申请号 TW098129915 申请日期 2009.09.04
申请人 万国商业机器公司 发明人 迪皮崔欧 理查A;史欧雷亚库玛雷 雷那;史华森 莎莉A;崔欧 欧艾D
分类号 G03F7/039;C08F20/66;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种包含具有下式之重复单元的聚合物: 其中Z表示聚合物主链之重复单元;X为选自由以下组成之群之键联基团:伸烷基、伸芳基、伸芳烷基、羰基、羧基、羧基伸烷基、氧基、氧基伸烷基及其组合;且R系选自由以下组成之群:氢、烷基、芳基及环烷基;其限制条件为X与R不为同一环系统之一部分;且包含至少一个具有一或多个官能基之其他重复单元,该等官能基选自由苯酚、氟醇、内酯、酸酐、醇基、磺醯胺基团及酸不稳定基团组成之群。
地址 美国