基板清洗方法及基板清洗装置

摘要

本发明提供一种在不增大生产节拍时间以及运营成本的情况下，抑制在基板的一个主面上形成的图案受到损坏的同时，良好地清洗基板的另一个主面的基板清洗方法及基板清洗装置。该基板处理装置包括：液膜形成工序，向基板的一个主面供给第一液体来形成第一液膜，清洗工序，在一个主面上形成有第一液膜的状态下，将对第二液体施加超声波而成的超声波施加液供给至基板的另一个主面，来对另一个主面进行清洗；第一液体的空化强度比第二液体的空化强度低，空化强度是指，在超声波传递至在基板的主面上存在的液体时，通过在该液体中发生的空穴现象来作用于基板的每单位面积的应力。

主权项

一种基板清洗方法，对在一个主面上形成有图案的基板的另一个主面进行清洗，其特征在于，包括：液膜形成工序，向所述基板的所述一个主面供给第一液体，来形成第一液膜，清洗工序，在所述一个主面上形成有所述第一液膜的状态下，将对第二液体施加超声波而成的超声波施加液供给至所述基板的所述另一个主面，来对所述另一个主面进行清洗；所述第一液体的空化强度比所述第二液体的空化强度低，所述空化强度是指，在超声波传递至在所述基板的主面上存在的液体时，通过在该液体中发生的空穴现象来作用于所述基板的每单位面积的应力。