发明名称 成膜装置以及成膜方法
摘要 本发明提供一种能够提高类金刚石膜的成膜效率的成膜装置以及成膜方法。成膜装置(10)具有:腔室(1),在内部形成有处理空间(V);低电感的电感耦合式天线(21),配置于处理空间(V);高频电力供给部(24),向电感耦合式天线(21)间歇性地供给高频电力;气体供给部(3),向处理空间(V)供给含有碳氢化合物的气体;相对移动部(4),使作为成膜的对象物的基体材料(9)相对于电感耦合式天线(21)移动;电压施加部(5),在暂时停止向电感耦合式天线(21)供给高频电力的时间段,向基体材料(9)施加负电压。
申请公布号 CN104947067A 申请公布日期 2015.09.30
申请号 CN201510131930.5 申请日期 2015.03.25
申请人 斯克林集团公司 发明人 中岛直人;羽田浩二;吉野裕文
分类号 C23C16/27(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I 主分类号 C23C16/27(2006.01)I
代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 宋晓宝;向勇
主权项 一种成膜装置,其特征在于,具有:腔室,在内部形成有处理空间;低电感的电感耦合式天线,配置于所述处理空间;高频电力供给部,向所述电感耦合式天线间歇性地供给高频电力;气体供给部,向所述处理空间供给含有碳氢化合物的气体;相对移动部,使作为成膜的对象物的基体材料相对于所述电感耦合式天线移动;电压施加部,在暂时停止向所述电感耦合式天线供给高频电力的时间段,向所述基体材料施加负电压。
地址 日本国京都府京都市