发明名称 |
一种OTP存储单元及其制作方法 |
摘要 |
本发明公开了一种OTP存储单元及其制作方法。该OTP存储单元,包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底上的栅介质层;位于所述栅介质层上的栅极;位于所述栅极周围的氮化硅侧墙结构;位于所述栅极与所述氮化硅侧墙结构之间的侧壁介质层;以及位于所述栅极两侧的源极和漏极。该OTP存储单元热电子不是存储在浮栅中,利用侧墙结构来俘获并存储电子,因此,不需要额外的选通管或耦合电容即可实现数据的存储与读取,相对于传统的浮栅OTP而言,占用面积小,有利于提高存储器的存储密度,并且其制作方法与标准逻辑制程相兼容,工艺简单,可以极大的节省制造成本。 |
申请公布号 |
CN103165614B |
申请公布日期 |
2015.09.23 |
申请号 |
CN201110413801.7 |
申请日期 |
2011.12.13 |
申请人 |
无锡华润上华科技有限公司 |
发明人 |
蔡建祥;许宗能;杜鹏;周玮 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种OTP存储单元,其特征在于,包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底上的栅介质层;位于所述栅介质层上的栅极;位于所述栅极周围且和所述衬底直接接触的氮化硅侧墙结构;位于所述栅极与所述氮化硅侧墙结构之间的侧壁介质层;以及位于所述栅极两侧的源极和漏极;其中,所述氮化硅侧墙结构用于存储电子。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 |