发明名称 | 具有多个等离子源体的离子注入机 | ||
摘要 | 本发明涉及—种离子注入机,具有壳体ENV,在壳体ENV中安置有通过高压电通道PET连接到基底电源ALT的基底支撑PPS,所述壳体ENV设置有泵进失置PP,PS,所述壳体ENV还具有没有任何阻碍物且被安置在基底支撑对面的至少两个圆柱形源体CS1,CS2。所述注入机的特征在于其每个源体CS1,CS2具有至少一个约束线圈BCI1-BCS1,BCI2-BCS2。 | ||
申请公布号 | CN104937691A | 申请公布日期 | 2015.09.23 |
申请号 | CN201380069786.6 | 申请日期 | 2013.11.25 |
申请人 | 离子射线服务公司 | 发明人 | F·托瑞格罗萨;L·洛克斯 |
分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 郭思宇 |
主权项 | 一种离子注入机,具有壳体(ENV),在壳体(ENV)中布置有通过高压电通道(PET)连接到基底电源(ALT)的基底支撑(PPS),所述壳体(ENV)设有泵送装置(PP,PS),所述壳体(ENV)还具有没有任何阻碍物且被安置在所述基底支撑(PPS)对面的至少两个圆柱形源体(CS1,CS2,CS3,CS4),其特征在于,所述注入机的每个源体(CS1,CS2,CS3,CS4)具有至少一个约束线圈(BCI1‑BCS1,BCI2‑BCS2)。 | ||
地址 | 法国佩尼耶 |