| 发明名称 | 供给和分配无气泡光刻化学溶液的系统和方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻系统包括可变容积缓冲罐、连接至缓冲罐的分配系统以及配置为从缓冲罐的顶部空间释放气体，而阻挡从顶部空间释放液体的阀。存储容器具有位于底部的开口并且通过该开口排放至缓冲罐。缓冲罐具有足以接收存储容器的全部内含物的存储容量。该系统在防止化学溶液与空气和其他气体接触的同时，向分配系统供给化学溶液。本发明涉及供给和分配无气泡光刻化学溶液的系统和方法。 | ||
| 申请公布号 | CN104916565A | 申请公布日期 | 2015.09.16 |
| 申请号 | CN201410345008.1 | 申请日期 | 2014.07.18 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 周文湛;李宏仁;刘旭原;黄宇辰;吴承翰;王士哲;黄和涌 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人 | 章社杲;孙征 |
| 主权项 | 一种光刻系统，包括：可变容积缓冲罐；分配系统，连接至所述缓冲罐并且配置为将光刻化学溶液从所述缓冲罐分配至晶圆上；以及阀，配置为从所述缓冲罐的顶部空间释放气体，而阻挡从所述顶部空间释放液体。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||