发明名称 | 真空装置及基板处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI499733 | 申请公布日期 | 2015.09.11 |
申请号 | TW099100383 | 申请日期 | 2010.01.08 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 锅山裕树 |
分类号 | F16K51/02;F16K39/00 | 主分类号 | F16K51/02 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 | |
主权项 | 一种真空装置,其特征为:具备容器本体,其系能够在真空状态下置放被处理基板,被构成气密;开口部,其系被设置在上述容器本体,用以取出放入上述被处理基板;阀体,其系用以开关上述开口部;和密封板,其系以包围上述开口部之方式被形成框状,在容器本体侧表面及相对于该容器本体侧表面之阀体侧表面之双方具备有框状密封构件,被安装成在上述开口部之周围装卸自如,上述阀体侧表面中,较该阀体侧表面所具备之框状密封构件内侧之表面,被设为低于较该框状密封构件外侧的表面。 | ||
地址 | 日本 |