发明名称 多元合金成分的微凸点制备工艺
摘要 本发明涉及一种多元合金成分的微凸点制备工艺,其特征是,包括以下步骤:(1)在晶圆表面电镀Ti/Cu种子层;在Ti/Cu种子层的表面制作设定厚度的铜层;(2)在玻璃晶圆表面涂覆光刻胶,对光刻胶进行开口工艺,得到开口;在开口处对玻璃晶圆进行刻蚀,形成凹槽;去除玻璃晶圆上的光刻胶;(3)将玻璃晶圆与承载片进行临时键合,将玻璃晶圆的背面进行减薄,减薄至凹槽形成玻璃通孔;(4)将具有玻璃通孔的玻璃晶圆放置于铜层上;将钎料填充于玻璃通孔中;移除玻璃晶圆,回流形成凸点;将凸点之间的铜层和Ti/Cu种子层刻蚀掉,形成铜柱凸点。本发明可制备不同成分和温度的凸点,自由度较大,同时避开电镀技术,节约了成本。
申请公布号 CN104900547A 申请公布日期 2015.09.09
申请号 CN201510307291.3 申请日期 2015.06.05
申请人 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 发明人 何洪文;于大全;曹立强
分类号 H01L21/60(2006.01)I;H01L23/48(2006.01)I;H01L23/488(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人 曹祖良;刘海
主权项 一种多元合金成分的微凸点制备工艺,其特征是,包括以下步骤:(1)在晶圆(1)表面电镀Ti/Cu种子层(2);(2)在Ti/Cu种子层(2)的表面制作设定厚度的铜层(3);(3)在玻璃晶圆(4)表面涂覆光刻胶(5);(4)对光刻胶(5)进行开口工艺,得到开口(6);开口(6)由光刻胶(5)的上表面延伸至玻璃晶圆(4)的上表面;(5)在开口(6)处对玻璃晶圆(4)进行刻蚀,形成凹槽(7);所形成的凹槽(7)与晶圆(1)上所需制备的微凸点的位置、大小一一对应;(6)去除玻璃晶圆(4)上的光刻胶(5);(7)将玻璃晶圆(4)与承载片(8)进行临时键合,玻璃晶圆(4)具有凹槽(7)的一面与承载片(8)进行临时键合;(8)将玻璃晶圆(4)的背面进行减薄,减薄至凹槽(7)形成玻璃通孔(9);减薄后玻璃通孔(9)的深度与晶圆(1)上所需制备的微凸点的高度一致;(9)将步骤(8)得到的具有玻璃通孔(9)的玻璃晶圆(4)放置于步骤(2)得到的铜层(3)上;(10)将钎料填充于玻璃通孔(9)中;(11)移除玻璃晶圆(4),回流形成凸点(10);(12)将凸点(10)之间的铜层(3)和Ti/Cu种子层(2)刻蚀掉,形成铜柱凸点。
地址 214135 江苏省无锡市新区菱湖大道200号中国传感网国际创新园D1栋
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