| 发明名称 | 磁记录介质用铝基板 | ||
| 摘要 | 本发明的磁记录介质用铝基板为成膜有厚度6μm以上的SiO<sub>2</sub>膜的铝基板，其特征在于，前述SiO<sub>2</sub>膜是将前述铝基板加热至150℃~370℃并利用气相成膜法而成膜的。 | ||
| 申请公布号 | CN104885155A | 申请公布日期 | 2015.09.02 |
| 申请号 | CN201380068291.1 | 申请日期 | 2013.12.11 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所 | 发明人 | 铃木哲雄;藤原直也;平野贵之 |
| 分类号 | G11B5/73(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/73(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 高旭轶;刘力 |
| 主权项 | 磁记录介质用铝基板，其为成膜有厚度6.0μm以上的SiO<sub>2</sub>膜的铝基板，其特征在于，所述SiO膜是将所述铝基板加热至150℃~370℃并利用气相成膜法而成膜的。 | ||
| 地址 | 日本兵库县神户市 | ||