发明名称 用于低压降稳压器中增强型暂态响应的半导体结构;SEMICONDUCTOR STRUCTURES FOR ENHANCED TRANSIENT RESPONSE IN LOW DROPOUT (LDO) VOLTAGE REGULATORS
摘要 本发明公开用于低压降(LDO)稳压器中的增强型暂态响应的系统、半导体结构、电子电路和方法。举例来说,本发明公开用于LDO稳压器中的增强型暂态响应的半导体结构,所述半导体结构包括第一电流镜电路,其耦合到所述LDO稳压器的输入连接件和输出连接件;第二电流镜电路,其耦合到所述LDO稳压器的所述输入连接件。第一放大器电路的第一输入耦合到所述第二电流镜电路,所述第一放大器电路的第二输入耦合到所述LDO稳压器的所述输出连接件,且所述第一放大器电路的第三输入耦合到参考电压。第二放大器电路的输入耦合到所述第一放大器电路的输出,所述第二放大器电路的输出耦合到所述第一电流镜电路,第三放大器电路的输入耦合到所述第一放大器电路的所述输出,且所述第三放大器电路的输出耦合到所述第二电流镜电路。在一些实施方式中,所述半导体结构是形成于半导体IC、晶圆、晶片或晶粒上的电源管理积体电路(PMIC)中或电源中的自我调整偏置LDO稳压器。
申请公布号 TW201533558 申请公布日期 2015.09.01
申请号 TW104103538 申请日期 2015.02.03
申请人 英特希尔美国公司 INTERSIL AMERICAS LLC 发明人 乐夫 格林 LUFF, GWILYM
分类号 G05F1/56(2006.01);H01L27/06(2006.01) 主分类号 G05F1/56(2006.01)
代理机构 代理人 阎启泰林景郁
主权项
地址 美国 US