发明名称 纳米多孔铜银支撑的二氧化锰电极片及其制备方法
摘要 本发明为一种纳米多孔铜银支撑的二氧化锰电极片及其制备方法,该电极片的横断面分为三层,中间芯层为非晶基体,两侧为纳米多孔铜银,在纳米多孔铜银的孔壁和表面生长着一层均匀细小的二氧化锰;电极片的厚度约为25~35µm,内侧非晶基体层厚度约为12~28µm,单侧纳米多孔铜银/二氧化锰复合电极材料层厚度约为3~11µm;所述的非晶基体为Cu<sub>x</sub>Zr<sub>y</sub>Ag<sub>z</sub>合金成分,其中,40≤x≤45,45≤y≤50,5≤z≤15,且x+y+z=100。本发明可以实现电极片的独立支撑,与传统复杂繁琐的压制电极片过程相比,免去添加导电剂、粘结剂等物质,进而避免了当前技术存在的活性物质分散性差、易脱落、有效比表面积小等弊端。
申请公布号 CN104867681A 申请公布日期 2015.08.26
申请号 CN201510216607.8 申请日期 2015.04.30
申请人 河北工业大学 发明人 秦春玲;刘江云;王志峰;赵维民;张磊
分类号 H01G11/26(2013.01)I;H01G11/28(2013.01)I;H01G11/46(2013.01)I;H01G11/24(2013.01)I;H01G11/86(2013.01)I 主分类号 H01G11/26(2013.01)I
代理机构 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 代理人 赵凤英
主权项  一种纳米多孔铜银支撑的二氧化锰电极片,其特征为该电极片的横断面分为三层,中间芯层为非晶基体,两侧为纳米多孔铜银,在纳米多孔铜银的孔壁和表面生长着一层均匀细小的二氧化锰;电极片的厚度为25~35 µm,内侧非晶基体层厚度为12~28 µm,单侧纳米多孔铜银/二氧化锰复合电极材料层厚度为3~11 µm;所述的非晶基体为Cu<sub>x</sub>Zr<sub>y</sub>Ag<sub>z</sub>合金成分,其中,40≤x≤45,45≤y≤50,5≤z≤15,且x+y+z=100;所述的纳米多孔铜银为孔径在10~90 nm。
地址 300401 天津市北辰区双口镇西平道5340号河北工业大学