发明名称 | 曝光装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种曝光装置,所述曝光装置包括掩膜板,所述掩膜板上设置有掩膜图形,所述曝光装置还包括第一微透镜层,所述第一微透镜层设置在所述掩膜板的出光侧,且所述第一微透镜层利用穿过所述掩膜板的光线形成所述掩膜图形的缩小的实像,所述实像和所述掩膜板分别位于所述第一微透镜层的两侧。本发明利用微透镜的特性,使掩膜图形形成缩小的实像后投影到待曝光基板上,有效提高了曝光的精度和分辨率,节约了设备成本和研发成本。 | ||
申请公布号 | CN104865801A | 申请公布日期 | 2015.08.26 |
申请号 | CN201510294077.9 | 申请日期 | 2015.06.01 |
申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 陈善韬;刘建宏 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;陈源 |
主权项 | 一种曝光装置,所述曝光装置包括掩膜板,所述掩膜板上设置有掩膜图形,其特征在于,所述曝光装置还包括第一微透镜层,所述第一微透镜层设置在所述掩膜板的出光侧,且所述第一微透镜层利用穿过所述掩膜板的光线形成所述掩膜图形的缩小的实像,所述实像和所述掩膜板分别位于所述第一微透镜层的两侧。 | ||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |