次２０奈米之形貌体的均匀压印图案转移方法;METHODS FOR UNIFORM IMPRINT PATTERN TRANSFER OF SUB-20 NM FEATURES

摘要

于此说明增加压印微影术中蚀刻选择性的方法，该方法使用材料沉积技术对该多层材料堆叠给予一独有的外部形貌，从而增强蚀刻制程窗口以及改良蚀刻选择性。例如，能够达到一图案化抗蚀剂层与沉积的金属、类金属或是非有机氧化物之间50：1或更高之蚀刻选择性，大大地保持该蚀刻制程之前该图案形貌体高度，转移该图案进入该基板，容许在高保真度下次20奈米图案转移。