发明名称 感光性导电膜、使用其的导电图案的形成方法及导电图案基板;PHOTOSENSITIVE CONDUCTIVE FILM, FABRICATING METHOD OF CONDUCTIVE PATTERN USING THE SAME AND CONDUCTIVE PATTERN SUBSTRATE
摘要 本发明的导电图案的形成方法包括:准备依序具备含有导电性纤维的导电层、含有感光性树脂及无机填料的感光性树脂层、及支撑膜的感光性导电膜,并在基材上自导电层侧以密接的方式积层导电层及感光性树脂层的步骤;以及藉由将基材上的感光性树脂层及导电层曝光及显影而形成导电图案的步骤。; and a step of forming a conductive pattern by exposing and developing the photosensitive resin layer and the conductive layer on the substrate.
申请公布号 TW201530567 申请公布日期 2015.08.01
申请号 TW103130324 申请日期 2014.09.03
申请人 日立化成股份有限公司 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. 发明人 海老原雅彦 EBIHARA, MASAHIKO;太田絵美子 OOTA, EMIKO;村上泰治 MURAKAMI, YASUHARU;山崎宏 YAMAZAKI, HIROSHI;田仲裕之 TANAKA, HIROYUKI
分类号 H01B13/00(2006.01);G03F7/032(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01B5/14(2006.01) 主分类号 H01B13/00(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址 日本 JP