发明名称 |
集成电路基板的清洁机台 |
摘要 |
本实用新型揭示了一种集成电路基板的清洁机台,包括机台主体、装载端口、清洗腔、供液及动力系统,在清洗腔内设置有基板载盘、喷头和擦除器,基板载盘承载并带动基板旋转,喷头喷射气体和/或液体,擦除器包括驱动端、摆臂和擦头,该摆臂以驱动端为中心摆动,摆臂平行于基板载盘,擦头设置在摆臂上,擦头随着摆臂运动的过程中接触基板的表面并产生机械力以清洁基板。采用本实用新型的清洁机台对集成电路基板进行清洗,能够提高效率,并去除顽固污渍。 |
申请公布号 |
CN204497200U |
申请公布日期 |
2015.07.22 |
申请号 |
CN201520110723.7 |
申请日期 |
2015.02.15 |
申请人 |
盛美半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
初振明;王希;陈福平;王晖 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
陆嘉 |
主权项 |
一种集成电路基板的清洁机台,包括机台主体、装载端口、清洗腔、供液及动力系统,其特征在于,所述清洗腔内设置有基板载盘、喷头和擦除器,所述基板载盘承载并带动基板旋转,所述喷头喷射气体和/或液体,所述擦除器包括驱动端、摆臂和擦头,该摆臂以所述驱动端为中心摆动,所述摆臂平行于所述基板载盘,所述擦头设置在所述摆臂上,所述擦头随所述摆臂运动,与所述基板的表面接触,产生机械力以清洁所述基板。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区中国上海张江高科技园区蔡伦路1690号第4幢 |