发明名称 PHASE MODULATION METHOD AND PHASE MODULATING DEVICE
摘要 원하는 강도 분포를 정밀도 좋게 실현하기 위한 위상 분포를 간단하고 쉽게 구할 수 있는 위상 변조 방법을 제공한다. 타겟면 TA에서 변조광 P2가 소정의 강도 분포를 가지도록, 위상 변조면(20a)에 표시시키는 위상 분포를 산출하여, 이 위상 분포를 위상 변조면(20a)에 표시시키고, 판독광 P1을 위상 변조면(20a)에 입사시켜서 변조광 P2를 생성한다. 위상 분포를 산출할 때, 위상 변조면(20a)상의 영역을 N개의 영역 A… A으로 분할하여, 영역 A… A에 있어서의 강도 분포의 적분치가 서로 같아지도록 이들 크기를 설정한다. 또, 타겟면 TA상의 영역을 N개의 영역 B… B으로 분할하여, 영역 B… B에 있어서의 강도 분포의 적분치가 서로 같아지도록 이들 크기를 설정한다. 영역 A에서부터 영역 B까지의 광로 길이 L을 구하고, 광로 길이 L에 기초하여 영역 A의 위상을 결정함으로써, 위상 분포를 산출한다.
申请公布号 KR20150084882(A) 申请公布日期 2015.07.22
申请号 KR20157014605 申请日期 2013.11.07
申请人 HAMAMATSU PHOTONICS K.K. 发明人 TAKIGUCHI YUU;INOUE TAKASHI
分类号 G02B26/06;G03H1/08;G03H1/22 主分类号 G02B26/06
代理机构 代理人
主权项
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