| 发明名称 | 减反射玻璃 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种以铝硅玻璃为衬底、可见光全波段平均透过率≥94.5％、镀膜面单面全波段平均反射率≤1％、高硬度、耐刮花、耐酸碱、后续加工性强的减反射玻璃。减反射玻璃包括依次层叠的铝硅玻璃基板、第一二氧化硅层、第一高折射率层、第二二氧化硅层、第二高折射率层、第三二氧化硅层、第三高折射率层、第四二氧化硅层、第四高折射率层、第五二氧化硅层及第五高折射率；第一高折射率层为五氧化二铌层；第二高折射率层为五氧化二铌层或氮化硅层；第三高折射率层为五氧化二铌层或氮化硅层。这种减反射玻璃镀膜面单面全波段平均反射率更低、硬度更高，特别适合后加工工序中的酸碱处理，从而适应工序更多、适用范围更广。 | ||
| 申请公布号 | CN204451390U | 申请公布日期 | 2015.07.08 |
| 申请号 | CN201420832584.4 | 申请日期 | 2014.12.24 |
| 申请人 | 宜昌南玻显示器件有限公司 | 发明人 | 方凤军;刘玉华;何建军;杜晓峰;边彬 |
| 分类号 | B32B17/06(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;C03C17/34(2006.01)I | 主分类号 | B32B17/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 生启 |
| 主权项 | 一种减反射玻璃，其特征在于，所述减反射玻璃包括依次层叠的铝硅玻璃基板、第一二氧化硅层、第一高折射率层、第二二氧化硅层、第二高折射率层、第三二氧化硅层、第三高折射率层、第四二氧化硅层、第四高折射率层、第五二氧化硅层及第五高折射率；所述第一高折射率层为五氧化二铌层；所述第二高折射率层为五氧化二铌层或氮化硅层；所述第三高折射率层为五氧化二铌层或氮化硅层；所述第四高折射率层为五氧化二铌层或氮化硅层；所述第五高折射率层为氮化硅层；所述第一二氧化硅层的厚度为<img file="FDA0000642795930000011.GIF" wi="301" he="78" />所述第一高折射率层的厚度为<img file="FDA0000642795930000012.GIF" wi="270" he="83" />所述第二二氧化硅层的厚度为<img file="FDA0000642795930000013.GIF" wi="299" he="81" />所述第二高折射率层的厚度为<img file="FDA0000642795930000014.GIF" wi="270" he="81" />所述第三二氧化硅层的厚度为<img file="FDA0000642795930000015.GIF" wi="358" he="84" />所述第三高折射率层的厚度为<img file="FDA0000642795930000016.GIF" wi="320" he="79" />所述第四二氧化硅层的厚度为<img file="FDA0000642795930000017.GIF" wi="302" he="78" />所述第四高折射率层的厚度为<img file="FDA0000642795930000018.GIF" wi="324" he="78" />所述第五二氧化硅层的厚度为<img file="FDA0000642795930000019.GIF" wi="357" he="85" />所述第五高折射率层的厚度为<img file="FDA00006427959300000110.GIF" wi="301" he="78" /> | ||
| 地址 | 443000 湖北省宜昌市大连路38号 | ||