| 发明名称 |
测定装置、基板处理系统及测定方法;MEASURING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND MEASURING METHOD |
| 摘要 |
可实现轻量化，并提供一种低价的测定装置、基板处理系统及测定方法。实施形态之一态样之测定装置，系具备有搬送部、摄像部、测定部。搬送部，系搬送形成有图案的基板。摄像部，系配置于搬送部的上方，并对载置于搬送部之基板的图案进行拍摄。又，测定部，系根据由摄像部所拍摄之图案的图像资讯，测定图案的形状。 |
| 申请公布号 |
TW201526139 |
申请公布日期 |
2015.07.01 |
| 申请号 |
TW103130809 |
申请日期 |
2014.09.05 |
| 申请人 |
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
森山茂 MORIYAMA, SHIGERU;尾上幸太朗 ONOUE, KOUTAROU;后藤英昭 GOTOH, HIDEAKI;藤原真树 FUJIWARA, MASAKI |
| 分类号 |
H01L21/67(2006.01);G03F7/16(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);G01N21/95(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
