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经营范围
发明名称
内连线结构与其形成方法
摘要
申请公布号
TWI491004
申请公布日期
2015.07.01
申请号
TW101126904
申请日期
2012.07.26
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
陈建安;刘文俊;林俊杰;苏鸿文;蔡明兴;章勋明
分类号
H01L23/52;H01L21/768
主分类号
H01L23/52
代理机构
代理人
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
一种内连线结构,包括:一第一沟槽;以及一第二沟槽,其中该第二沟槽比该第一沟槽宽,其中该第一沟槽与该第二沟槽均衬垫有一扩散阻障层,其中一第一导电层系沉积于该扩散阻障层上,其中一金属盖层系沉积于该第一导电层上,以及其中一第二导电层系沉积于该第二沟槽中的该金属盖层上,其中该第二沟槽中的该金属盖层直接接触该扩散阻障层。
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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