| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Glaskörpers mit hohem Kieselsäuregehalt durch Ziehen einer erweichten Glasmasse aus einem länglichen, im Wesentlichen zylindrischen Schmelztiegel, indem in den Schmelztiegel SiO 2 -Körnung von oben zugeführt wird, die SiO 2 -Körnung auf eine Erweichungstemperatur erhitzt wird, so dass sich die eine Schmelzoberfläche aufweisende, erweichte Glasmasse bildet, die erweichte Glasmasse über eine Bodenöffnung des Schmelztiegels unter Bildung eines Glasstrangs abgezogen, und der Glasstrang zu dem Glaskörper abgelängt wird, wobei durch das Zuführen der SiO 2 -Körnung eine Schüttung gebildet wird, die die Schmelzoberfläche teilweise, unter Belassung eines Schmelzrandes bedeckt, und wobei die Schmelzoberfläche optisch erfasst wird. Um das Einschmelzverhalten der Körnung zu verbessern und die Ausbildung einer Sinterkruste zu unterdrücken oder ganz zu verhindern, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, bei der optischen Erfassung der Schmelzoberfläche die Breite mindestens eines Teilabschnitts des Schmelzrandes fortlaufend zu ermitteln und durch die Zufuhrrate der SiO 2 -Körnung auf einen Wert innerhalb eines Soll-Breitenbereichs einzustellen.</p> |
