| 发明名称 | 用于激光等离子体极紫外光刻光源的光谱纯化滤波装置 | ||
| 摘要 | 一种用于激光等离子体极紫外光刻光源的光谱纯化滤波装置，特点在于其构成依次包括表面镀膜的第一光栅、对于13.5nm光谱具有高透过率的薄金属片和表面镀膜的第二光栅，所述的第一光栅、第二光栅与薄金属片表面互相平行，第一光栅和第二光栅的线条方向相互垂直，光栅常数为10～150nm，占空比为40%～60%，厚度为1～10mm。薄金属片由锆或钼制成，厚度0.1～5mm。本发明装置结构简单，使激光等离子体辐射的光谱纯化。 | ||
| 申请公布号 | CN103149618B | 申请公布日期 | 2015.06.17 |
| 申请号 | CN201310093540.4 | 申请日期 | 2013.03.21 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 张运波;曾爱军;黄惠杰 |
| 分类号 | G02B5/20(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 一种用于激光等离子体极紫外光刻光源的光谱纯化滤波装置，特征在于其构成依次包括表面镀膜的第一光栅(11)、对于13.5nm光谱具有高透过率的薄金属片(12)和表面镀膜的第二光栅(13)，所述的第一光栅(11)、薄金属片(12)和第二光栅(13)的表面三者平行，第一光栅(11)和第二光栅(13)具有相同的结构，第一光栅(11)和第二光栅(13)的线条方向相互垂直，光栅常数为10～150nm，占空比为40％～60％，厚度为1～10mm。 | ||
| 地址 | 201800 上海市嘉定区800－211邮政信箱 | ||