发明名称 对氧化物-矽堆叠的黏附性改良;ADHESION IMPROVEMENTS FOR OXIDE-SILICON STACK
摘要 实施例一般而言系关于控制氧化矽/非晶矽堆叠中之氢含量之方法。藉由预清洁基板之残留物,控制堆叠沉积期间氢的输送及防止在后续层沉积及处理期间从沉积之层之氢除气,可避免在元件(诸如3D NAND元件)形成中的分层影响。
申请公布号 TW201521091 申请公布日期 2015.06.01
申请号 TW103138219 申请日期 2014.11.04
申请人 应用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 韩新海 HAN, XINHAI;史立卡拉苏巴拉希米 SREEKALA, SUBBALAKSHMI;拉札高帕蓝纳卡拉詹 RAJAGOPALAN, NAGARAJAN;金秉宪 KIM, BOK HOEN
分类号 H01L21/205(2006.01);H01L27/115(2006.01) 主分类号 H01L21/205(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财李世章
主权项
地址 美国 US