半导体制程装置及半导体制造方法,申请号TW099131153-传众专利搜索

发明名称	半导体制程装置及半导体制造方法
摘要
申请公布号	TWI486717	申请公布日期	2015.06.01
申请号	TW099131153	申请日期	2010.09.15
申请人	台湾积体电路制造股份有限公司	发明人	简聪智;陈永镇;李宏仁
分类号	G03F7/20;H01L21/027	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人	洪澄文台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项	一种半导体制程装置，包括：一扫描机，用以对一晶圆之一主要区域进行曝光，且该晶圆涂布有一光敏感材料；以及一半导体晶圆涂布显影系统，包括一晶圆边缘曝光模组，其中该晶圆边缘曝光模组包括：一晶圆旋转装置，支持该晶圆；一光学系统，将一曝光光线指向该晶圆之一各别边缘部分；一扫描机介面模组，藉由一电脑网络传送或接收来自该扫描机之一伪边缘曝光资讯(dummy edge exposure information)；以及一控制器，利用来自该扫描机之该伪边缘曝光资讯控制该光学系统。
地址	新竹市新竹科学工业园区力行六路8号