| 摘要 |
<p>패턴이 형성된 몰드를 이용함으로써 기판에 공급된 임프린트 재료에 패턴을 전사하도록 구성된, 본 발명의 임프린트 장치는, 수광 소자와, 기판에 형성된 마크와 몰드에 형성된 마크를 조사하고, 기판에 형성된 마크와 몰드에 형성된 마크로부터의 반사광을 수광 소자로 안내하도록 구성된 검출계와, 릴레이 광학계를 포함한다. 릴레이 광학계는 기판에 형성된 마크와 몰드에 형성된 마크로부터의 반사광을 릴레이 광학계와 검출계 사이에서 결상하도록 구성된다. 검출계는 릴레이 광학계에 의해 결상된 광을 수광 소자로 안내하도록 구성된다.</p> |
