光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置

摘要

本发明具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。

主权项

一种光掩模，使光选择性地照射到在一定方向上搬运的基板上的多个位置，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述光掩模的特征在于设置有：多个掩模图案，其在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记，其形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成，上述多个对准标记在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为以与上述掩模图案具有一定的位置关系的方式设置在上述一对细线间的基准位置相对于上述多个对准标记中的任一个对准标记的上述基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上偏离预先决定的距离的状态。