发明名称 |
可挠式元件及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种可挠式元件及其制造方法,可挠式元件包括一第一可挠式基板、一缓冲层及一电子元件。缓冲层配置在第一可挠式基板上。电子元件配置在缓冲层上。本发明还提供的可挠式元件的制造方法,包括下列步骤,首先,提供一硬质基板。接着,形成一离型层在硬质基板上。再来,形成一缓冲层在离型层上。其后,形成一电子元件在缓冲层上。再来,通过离型层将缓冲层以及电子元件自硬质基板上分离。最后,将一第一可挠式基板形成缓冲层以及电子元件上,其中缓冲层位于电子元件与第一可挠式基板之间。 |
申请公布号 |
CN104576971A |
申请公布日期 |
2015.04.29 |
申请号 |
CN201410130932.8 |
申请日期 |
2014.04.02 |
申请人 |
胜华科技股份有限公司 |
发明人 |
王冠仁;陈承义;赖台晏;林祺臻;蔡建民 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01)I;G02F1/167(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G02B26/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种可挠式元件的制造方法,其特征在于,包括:提供硬质基板;形成离型层在该硬质基板上;形成缓冲层在该离型层上;形成电子元件在该缓冲层上;通过该离型层将该缓冲层以及该电子元件自该硬质基板上分离;以及将第一可挠式基板形成在该缓冲层以及该电子元件上,其中该缓冲层位于该电子元件与该第一可挠式基板之间。 |
地址 |
中国台湾台中市潭子区建国路10号 |