发明名称 露光装置およびデバイス製造方法
摘要 <p>パターンの繋ぎ合わせの欠陥の発生を低減する露光装置を提供すること。マスクを保持して移動するマスクステージとマスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、マスクステージは複数のマスクが互いに接しないように複数のマスクを保持し、投影光学系を複数設け、複数の投影光学系の各々は、複数のマスクのうち1つのマスクのパターンの像を基板に投影し、各投影光学系によって露光される基板の各露光領域が互いに一部重なるように基板を露光する。</p>
申请公布号 JPWO2013088551(A1) 申请公布日期 2015.04.27
申请号 JP20130549023 申请日期 2011.12.15
申请人 キヤノン株式会社 发明人 福岡 亮介
分类号 G03F7/20;G02B13/26;G02B17/08;G02F1/13;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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