发明名称 一种气相沉淀设备用喷淋头孔径监测装置
摘要 本实用新型公开了一种气相沉淀设备用喷淋头孔径监测装置,该监测装置包括设置于上盖上的光线发射与接收装置,以及与光线发射与接收装置电连接的用以反应反射光线强弱的反馈装置。通过设置光线发射与接收装置检测经过小孔后反射回光线的强弱判断孔径的变化,实现对喷淋头孔径的实时监测,及时的反馈处理,避免出现喷淋头孔隙堵塞严重的情况,保证设备的正常使用,确保工业生产的稳定性与高效性。
申请公布号 CN204281855U 申请公布日期 2015.04.22
申请号 CN201420684848.6 申请日期 2014.11.14
申请人 聚灿光电科技股份有限公司 发明人 陈伟;陈立人
分类号 C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I;C30B25/16(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人 杨林洁
主权项 一种气相沉淀设备用喷淋头孔径监测装置,所述气相沉淀设备包括加热系统、反应室,设置于所述反应室内的反应平台,向所述反应室内输送气态原材料的喷淋头,其特征在于,所述喷淋头包括上盖与位于所述上盖下方均布小孔的孔板,所述监测装置包括设置于所述上盖上的光线发射与接收装置,所述上盖上开设有光线入射与反射的窗口,所述光线发射与接收装置下方对应的反应平台上设置有反光样品,入射光线依次经过窗口与小孔后经反光样品反射至光线发射与接收装置处;所述监测装置还包括与所述光线发射与接收装置电连接的用以反应反射光线强弱的反馈装置。
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