| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Struktur, insbesondere in Form einer Mikro-Nano-Struktur, mit mindestens einem ersten Strukturteil, vorzugsweise bestehend aus Silicium-Mikrostrukturen, das zumindest teilweise derart mit einem weiteren Strukturteil, vorzugsweise bestehend aus Silicium, Aluminium oder Kalzium aufweisenden Beschichtungsmaterialien versehen wird, das eine Oberfläche erhalten wird, die neben einer hohen Emissivität, insbesondere im infraroten Strahlungsbereich, eine hohe Stabilität gegen mechanische und/oder thermische und/oder durch Kontaktmedien hervorgerufene Beanspruchung aufweist, sowie insbesondere eine nach diesem Verfahren hergestellte Struktur.</p> |
