图案形成方法、和磁记录介质的制造方法

摘要

本发明的课题是形成良好的微细图案。因而提供了一种图案形成方法，包含以下工序：使用表面处理高分子材料在基板上形成表面处理高分子膜的工序；将含有该表面处理高分子材料的单体或低聚物的溶液施用在该表面处理高分子膜表面上的工序；在表面处理高分子膜上，涂布含有具有至少2种聚合物链的嵌段共聚物的涂布液，而形成自组装层的工序；通过退火，由此在自组装层内形成微观相分离结构的工序；以及选择性地将微观相分离结构中的1种聚合物层除去，由残存的聚合物层形成凸图案的工序。

主权项

一种图案形成方法，包含以下工序：使用表面处理高分子材料在基板上形成表面处理高分子膜的工序；将含有该表面处理高分子材料的单体或低聚物的溶液施用在该表面处理高分子膜表面上的工序；在被施用了含有该表面处理高分子材料的单体或低聚物的溶液的该表面处理高分子膜上，涂布含有具有至少2种聚合物链的嵌段共聚物、和第1溶剂的嵌段共聚物涂布液，而形成含有该嵌段共聚物的自组装层的工序；通过对所述基板进行退火，由此在所述自组装层内形成微观相分离结构的工序；以及选择性地将所述微观相分离结构中的1种聚合物层除去，由残存的聚合物层形成凸图案的工序。