用于清洗金属残留物的方法和溶液

摘要

本发明涉及用于清洗金属残留物的方法和溶液，具体提供一种用于处理半导体器件的溶液，该溶液包含：活化剂，该活化剂包括吡啶、吡咯、吡咯烷、嘧啶、N,N-二甲基甲酰胺、氯化四乙胺、4-吡啶硫醇、或者具有单个N孤对电子活化剂的其它有机化合物中的至少一种；和蚀刻剂，该蚀刻剂包括氯化亚砜、Cl₂、Br₂、I₂、SOF₂、SOF₄、SO₂Cl₂、SOBr₂、S₂O₆F₂、HSO₃F、或C₂Cl₄O₂中的至少一种。

主权项

一种用于处理半导体器件的溶液，其包含：活化剂，所述活化剂包括吡啶、吡咯、吡咯烷、嘧啶、N,N‑二甲基甲酰胺、氯化四乙胺、4‑吡啶硫醇、或者具有单个N孤对电子活化剂的其它有机化合物中的至少一种；和蚀刻剂，所述蚀刻剂包括二氯亚砜(SOCl₂)、Cl₂、Br₂、I₂、SOF₂、SOF₄、SO₂Cl₂、SOBr₂、S₂O₆F₂、HSO₃F、或C₂Cl₄O₂中的至少一种。