雾化清洗装置和方法

摘要

本发明提供一种雾化清洗装置和方法，该雾化清洗装置包括冷却结构、谐振雾化结构和气动雾化结构，所述谐振雾化结构固定于所述气动雾化结构之上，所述冷却结构固定于所述谐振雾化结构之上，所述谐振雾化结构包括换能器和谐振器，所述谐振器上设有排液孔，所述气动雾化结构上开有第二进液孔、第二进气孔和雾化喷射口，所述排液孔与所述第二进液孔相连，所述第二进液孔与所述雾化喷射口连通，所述第二进气孔和所述雾化喷射口连通。本发明的雾化清洗装置结构简单，集成度高，实现了喷射超微雾化液滴，工艺易实现，克服单纯的雾化机制产生大尺寸液滴或是喷射流，对65纳米及其以下工艺的硅片表面的图形造成严重损伤的问题。

主权项

一种雾化清洗装置，其特征在于，所述雾化清洗装置包括冷却结构（3）、气动雾化结构（5）以及固定于所述气动雾化结构（5）之上谐振雾化结构，所述冷却结构（3）固定于所述谐振雾化结构之上，所述谐振雾化结构包括换能器和谐振器（6），所述谐振器（6）上设有排液孔（15），所述气动雾化结构（5）上开有第二进液孔、第二进气孔（8）和雾化喷射口（10），所述排液孔（15）与所述第二进液孔相连，所述第二进液孔与所述雾化喷射口（10）连通，所述第二进气孔（8）和所述雾化喷射口（10）连通。