发明名称 栅绝缘膜、有机薄膜晶体管及有机薄膜晶体管的制造方法
摘要 本发明提供栅绝缘膜、有机薄膜晶体管及其制造方法,该栅绝缘膜的膜质不会由于形成电极等时的加热、药液处理等而变化,在有机半导体层的形成时可以维持高的平坦性。另外提供通过使用这种栅绝缘膜、载流子迁移率大、可以显现稳定的晶体管特性的有机薄膜晶体管及其制造方法。本发明为栅绝缘膜,其含有使如下的组合物固化而成的固化物,该组合物以(A)使双酚型环氧化合物和含乙烯性不饱和键基团的单羧酸反应而成的化合物及(B)以光聚合引发剂或热聚合引发剂为必需成分,固化物中含有(A)成分40~90质量%、含有(B)成分0.1~30质量%,另外,本发明为将所述组合物涂布在栅电极上并使其固化而成的有机薄膜晶体管及其制造方法。
申请公布号 CN104423154A 申请公布日期 2015.03.18
申请号 CN201410436461.3 申请日期 2014.08.29
申请人 新日铁住金化学株式会社;国立大学法人山形大学 发明人 奥慎也;水上诚;时任静士;高野正臣;山田裕章;林秀平
分类号 G03F7/004(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L51/10(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I 主分类号 G03F7/004(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 李英
主权项 一种栅绝缘膜,其特征在于,其含有使如下的组合物固化而成的固化物,该组合物以(A)使双酚型环氧化合物和含乙烯性不饱和键基团的单羧酸反应而成的化合物、及(B)光聚合引发剂或热聚合引发剂为必需成分,固化物中含有(A)成分40~90质量%,含有(B)成分0.1~30质量%。
地址 日本东京