发明名称 |
一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构及其制备方法,包括SiC衬底、二维衍生膜及氮化物外延层,所述二维衍生膜位于所述SiC衬底及所述氮化物外延层之间,且所述二维衍生膜附着在所述SiC衬底的表面上,所述氮化物外延层附着在所述二维衍生膜上;其中,所述二维衍生膜由一层或两层以上的二维纳米片材料制成,所述二维纳米片材料包括石墨烯、硅烯、六方氮化硼和三碳化硼中的任意一种或两种以上的组合。本发明在氮化物LED外延层与SiC衬底之制作一层或两层以上的二维衍生薄膜,使其既能保证氮化物外延层生长的顺利进行,又可以在剥离过程有助于衬底与外延层的分离,极大地简化了剥离过程,提高了良率、降低了成本。 |
申请公布号 |
CN104393128A |
申请公布日期 |
2015.03.04 |
申请号 |
CN201410666107.X |
申请日期 |
2014.11.19 |
申请人 |
北京中科天顺信息技术有限公司 |
发明人 |
马亮;胡兵;李金权;裴晓将;刘素娟 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
北京轻创知识产权代理有限公司 11212 |
代理人 |
杨立 |
主权项 |
一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构,其特征在于:包括SiC衬底、二维衍生膜及氮化物外延层,所述二维衍生膜位于所述SiC衬底及所述氮化物外延层之间,且所述二维衍生膜附着在所述SiC衬底的表面上,所述氮化物外延层附着在所述二维衍生膜上;其中,所述二维衍生膜由一层或两层以上的二维纳米片材料制成,所述二维纳米片材料包括石墨烯、硅烯、六方氮化硼和三碳化硼中的任意一种或两种以上的组合。 |
地址 |
100085 北京市海淀区上地十街1号院2号楼17层1711室 |