发明名称 一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构及其制备方法
摘要 本发明涉及一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构及其制备方法,包括SiC衬底、二维衍生膜及氮化物外延层,所述二维衍生膜位于所述SiC衬底及所述氮化物外延层之间,且所述二维衍生膜附着在所述SiC衬底的表面上,所述氮化物外延层附着在所述二维衍生膜上;其中,所述二维衍生膜由一层或两层以上的二维纳米片材料制成,所述二维纳米片材料包括石墨烯、硅烯、六方氮化硼和三碳化硼中的任意一种或两种以上的组合。本发明在氮化物LED外延层与SiC衬底之制作一层或两层以上的二维衍生薄膜,使其既能保证氮化物外延层生长的顺利进行,又可以在剥离过程有助于衬底与外延层的分离,极大地简化了剥离过程,提高了良率、降低了成本。
申请公布号 CN104393128A 申请公布日期 2015.03.04
申请号 CN201410666107.X 申请日期 2014.11.19
申请人 北京中科天顺信息技术有限公司 发明人 马亮;胡兵;李金权;裴晓将;刘素娟
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人 杨立
主权项 一种使用SiC衬底的氮化物LED外延结构,其特征在于:包括SiC衬底、二维衍生膜及氮化物外延层,所述二维衍生膜位于所述SiC衬底及所述氮化物外延层之间,且所述二维衍生膜附着在所述SiC衬底的表面上,所述氮化物外延层附着在所述二维衍生膜上;其中,所述二维衍生膜由一层或两层以上的二维纳米片材料制成,所述二维纳米片材料包括石墨烯、硅烯、六方氮化硼和三碳化硼中的任意一种或两种以上的组合。
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