半导体装置与其形成方法;SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

摘要

本发明之半导体装置，包括第一型区域，其包括第一导电型。半导体装置包括第二型区域，其包括第二导电型。半导体装置包括第三型区域，其包括与第一导电型相反的第三导电型，且第三型区域覆盖第一型区域。半导体装置包括第四型区域，包括与第二导电型相反的第四导电型，且第四型区域覆盖第二型区域。半导体装置包括通道区，其延伸于第三型区域与第四型区域之间。