導電性酸化物およびその製造方法ならびに酸化物半導体膜

摘要

導電性酸化物は、Ｉｎと、Ａｌと、ＺｎおよびＭｇからなる群から選ばれる少なくとも１種類の元素であるＭと、Ｏと、を含み、かつ、結晶質Ａｌ2ＭＯ4を含む。導電性酸化物の製造方法は、ＺｎおよびＭｇからなる群から選ばれる少なくとも１種類の元素をＭとするとき、Ａｌ2Ｏ3粉末とＭＯ粉末とを含む第１の混合物を調製する工程（Ｓ１０）と、第１の混合物を仮焼することにより結晶質Ａｌ2ＭＯ4粉末を作製する工程（Ｓ２０）と、結晶質Ａｌ2ＭＯ4粉末とＩｎ2Ｏ3粉末とを含む第２の混合物を調製する工程（Ｓ３０）と、第２の混合物を成形することにより成形体を得る工程（Ｓ４０）と、成形体を焼結する工程（Ｓ５０）と、を含む。これにより、安価でかつスパッタリングのターゲットに好適に用いられて高物性の酸化物半導体膜が得られる導電性酸化物およびその製造方法ならびに酸化物半導体膜を提供できる。