发明名称 多重带电粒子束描绘装置以及多重带电粒子束描绘方法
摘要
申请公布号 TWI474106 申请公布日期 2015.02.21
申请号 TW101141345 申请日期 2012.11.07
申请人 纽富来科技股份有限公司 发明人 吉川良一;小笠原宗博
分类号 G03F1/78 主分类号 G03F1/78
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种多重带电粒子束描绘装置,其具备;载置试料之可连续移动的作业台;放射带电粒子束的放射部;具有复数个开口部,且包含前述复数个开口部整体的第1区域受到前述带电粒子束的照射,前述带电粒子束的一部分分别通过前述复数个开口部,藉此形成多重电子束的孔径构件;进行通过前述孔径构件的前述复数个开口部的多重电子束中之各自对应的电子束的熄灭偏向的复数个熄灭装置;藉由前述复数个熄灭装置将已偏向的各电子束遮蔽成电子束OFF的状态的熄灭孔径构件;用来检测通过前述孔径构件的复数个开口部的多重电子束中之不良电子束的检测部;将第2区域设定成包含除了通过前述孔径构件的复数个开口部中之前述不良电子束的开口部以外,比剩下的开口部中更多开口部的设定部;和将描绘处理控制成利用藉由通过前述第2区域内的开口部所形成的多重电子束,对试料描绘图案的描绘处理控制部。
地址 日本