電気泳動法による高密度薄膜の製造方法

摘要

少なくとも１つの材料Ｐｘを含む高密度薄膜を基板上に成膜する方法であって、少なくとも１つの材料Ｐｘのナノ粒子を含有するコロイド懸濁液を調達する工程（ａ）と、上記コロイド懸濁液の中に対向電極と共に上記基板を浸漬する工程（ｂ）と、上記基板及び上記対向電極の間に電圧を印加して、上記基板上に少なくとも１つの材料Ｐｘのナノ粒子を含む緻密な膜の電気泳動的成膜物を得る工程（ｃ）と、上記緻密な膜を乾燥する工程（ｄ）と、上記膜を機械的に固化する工程（ｅ）と、最低温度で、好ましくは１６０℃〜６００℃の温度で、さらに好ましくは１６０℃〜４００℃の温度で融解する上記材料Ｐｘの融解又は分解する温度（℃表示）の０．７倍を超えない（好ましくは０．５倍を超えない）温度ＴRで熱的な固化を行う工程（ｆ）とを備え、工程（ｅ）及び（ｆ）は、同時に又は順を逆にして行われてもよい。【選択図】なし