| 发明名称 | 一种基板处理装置及基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置。根据本发明的优选实施例的基板处理装置，可包括：第一室，其具有以水平状态输送基板的第一输送单元及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并输送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并输送所述基板的第三输送单元。 | ||
| 申请公布号 | CN104347352A | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201410374186.7 | 申请日期 | 2014.07.31 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 金镇浩 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 吕琳;杨生平 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，包括：第一室，其具有以水平状态搬送基板的第一输送单元，及向所述基板供给第一液体的第一喷嘴；第二室，其沿第一方向配置于所述第一室的后方，具有能在水平状态和第一倾斜状态间进行转换，并搬送所述基板的第二输送单元；第三室，其沿所述第一方向配置于所述第二室的后方，具有能够在所述第一倾斜状态和第二倾斜状态之间进行转换，并搬送所述基板的第三输送单元。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道天安市 | ||