| 摘要 |
La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une électrode pour OLED, comprenant les étapes successives suivantes : (a) dépôt, sur un substrat transparent, d'un film métallique constitué d'argent ou d'un alliage d'argent ayant une épaisseur comprise entre 35 et 70 nm, de préférence entre 45 et 65 nm ; (b) chauffage du substrat recouvert du film métallique à une température comprise entre 200 °C et 400 °C, pendant une durée au moins égale à 5 minutes, de préférence comprise entre 20 et 60 minutes, de manière à obtenir le démouillage du film métallique et la formation d'une grille métallique aléatoire sur le substrat transparent; (c) recouvrement du substrat transparent et de la grille métallique aléatoire avec une couche continue d'un matériau conducteur transparent. |
