画素结构及其制作方法

摘要

本发明提出一种画素结构的制作方法。于基板上形成薄膜电晶体并形成绝缘层，以覆盖基板以及薄膜电晶体。利用半调式光罩图案化绝缘层而形成凸起图案、与凸起图案连接之凹陷图案以及位于凹陷图案中之开口。凸起图案之厚度大于凹陷图案之厚度。开口贯穿凹陷图案而曝露出薄膜电晶体之汲极。形成透光导电层，以覆盖凸起图案、凹陷图案并填入开口。形成平坦层，以覆盖透光导电层。移除位于凸起图案上之部分平坦层、部份透光导电层以及开口中之部分平坦层，而使透光导电层形成画素电极图案。一种以上述方法所制作的画素结构亦被提出。

主权项

一种画素结构的制作方法，包括：提供一基板；于该基板上形成一薄膜电晶体；于该基板上形成一绝缘层，以覆盖该基板以及该薄膜电晶体；利用一半调式光罩图案化该绝缘层，以形成一凸起图案、与该凸起图案连接之一凹陷图案以及位于该凹陷图案中之一开口，其中该凸起图案之厚度大于该凹陷图案之厚度，该开口贯穿该凹陷图案而曝露出该薄膜电晶体之一汲极；于该基板上形成一透光导电层，以覆盖该凸起图案、该凹陷图案并填入该开口；形成一平坦层，以覆盖该透光导电层；以及移除位于该凸起图案上之部分该平坦层、部份该透光导电层以及该开口中之部分平坦层，而使该透光导电层形成一画素电极图案。