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<p>기판을 수직으로 세워서 증착 공정을 수행하는 원자층 증착장치가 개시된다. 원자층 증착장치는, 다수의 기판이 구비되어 증착 공정이 수행되는 프로세스 챔버, 상기 기판이 안착된 상태로 상기 프로세스 챔버에서 출입 가능하게 형성되어 상기 프로세스 챔버 내부에서 증착 공정 동안 중력 방향을 따라 수직으로 세워지도록 상기 기판을 지지하는 트레이 유닛 및 상기 프로세스 챔버 내부에 구비되어 상기 수직으로 지지된 기판에 증착가스를 분사하는 분사 유닛을 포함하여 구성된다.</p> |
