Appratus for treating substrate using plasma

摘要

본 발명은 챔버의 내부에 안테나를 위치시키는 플라즈마를 이용한 기판처리장치에 관한 것으로, 반응공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 위치하고 안테나; 상기 안테나에 연결된 전원공급장치; 상기 안테나를 플라즈마로부터 차폐시키는 절연수단; 상기 안테나와 대향하며 기판을 안치하기 위한 기판안치수단;을 포함하는 플라즈마를 이용한 기판처리장치를 제공한다.