发明名称 电磁屏蔽结构及其制作方法
摘要 一种电磁屏蔽结构,其包括:一基板、至少一晶片单元、一封装层及一电磁屏蔽单元。晶片单元设置于基板的表面且电性连接于基板,封装层设置于基板上且覆盖晶片单元。电磁屏蔽单元包括一第一屏蔽镀层、一第二屏蔽镀层及一第三屏蔽镀层。第一屏蔽镀层披覆封装层的外表面及基板的侧表面,第二屏蔽镀层披覆第一屏蔽镀层的外表面,第三屏蔽镀层披覆第二屏蔽镀层的外表面。本发明的结构藉由分别使用溅镀及化学无电镀的制程方法,可提升镀层的接着强度并使得电磁屏蔽结构的厚度均匀化。并使得电磁屏蔽效果提升及降低生产成本。
申请公布号 TWI460843 申请公布日期 2014.11.11
申请号 TW100109929 申请日期 2011.03.23
申请人 环旭电子股份有限公司 中国;环鸿科技股份有限公司 南投县草屯镇太平路1段351巷141号 发明人 吴明哲
分类号 H01L23/58;H05K9/00 主分类号 H01L23/58
代理机构 代理人 张耀晖 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项 一种电磁屏蔽结构,其包括:一基板;至少一晶片单元,其设置于该基板的表面且电性连接于该基板;一封装层,其设置于该基板上且覆盖上述至少一晶片单元;以及一电磁屏蔽单元,其包括:一第一屏蔽镀层,该第一屏蔽镀层更包括一第一不锈钢溅镀层及一铜溅镀层,该第一不锈钢溅镀层披覆于该封装层的表面及该基板的侧表面,该铜溅镀层披覆于该第一不锈钢溅镀层的表面;一第二屏蔽镀层,其为一披覆该铜溅镀层的外表面的化学铜镀层;以及一第二不锈钢溅镀层,其披覆该化学铜镀层的外表面。
地址 南投县草屯镇太平路1段351巷141号