| 发明名称 |
用于热处理腔室的高温测量过滤器;PYROMETRY FILTER FOR THERMAL PROCESS CHAMBER |
| 摘要 |
本文中所述之实施例一般系关于在半导体基板之热处理期间之高温测量。更特定而言,实施例系关于用于热处理腔室之高温测量过滤器。在某些实施例中,高温测量过滤器选择性地过滤选定之能量波长以改良高温计测量。高温测量过滤器可具有多种几何形状,该等几何形状可影响高温测量过滤器之功能。 |
| 申请公布号 |
TW201441590 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
| 申请号 |
TW103106086 |
申请日期 |
2014.02.24 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
拉尼许乔瑟夫Ｍ;亚当布鲁斯Ｅ;莫非特史帝夫 |
| 分类号 |
G01J5/00(2006.01);G01K15/00(2006.01);B01D69/02(2006.01) |
主分类号 |
G01J5/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>蔡坤财</name><name>李世章</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
