发明名称 用于制造薄层的装置和方法
摘要 一种用于在制造太阳能电池时在衬底上制造薄层的装置,其中,采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层,在该装置中,衬底在连续运行中在水平的输送带上被输送,并通过APCVD涂层法被涂层。在此,输送带具有输送轮,所述输送轮由耐热的非金属的材料优选陶瓷。在输送带的背离涂层装置的一侧设置有加热机构和/或喷淋气体供应机构。
申请公布号 CN104080946A 申请公布日期 2014.10.01
申请号 CN201280038501.8 申请日期 2012.07.26
申请人 吉布尔·施密德有限责任公司 发明人 C·施密德;D·哈贝尔曼;J·豪恩格斯;C·阿特马;T·斯图尔特;K·普罗文查
分类号 C23C16/458(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 C23C16/458(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 周志明;杨国治
主权项 一种用于在衬底上制造薄层特别是用于制造太阳能电池的装置,带有:‑APCVD涂层装置(13),用于采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层;‑带有输送轮(28)的水平的输送带(27),用于在连续运行中输送衬底,所述输送轮由耐热的非金属的材料构成;和‑设置在输送带的背离APCVD涂层装置的一侧的加热机构(14)和/或喷淋气体供应机构(34)。
地址 德国弗罗伊登斯塔特