发明名称 |
用于制造薄层的装置和方法 |
摘要 |
一种用于在制造太阳能电池时在衬底上制造薄层的装置,其中,采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层,在该装置中,衬底在连续运行中在水平的输送带上被输送,并通过APCVD涂层法被涂层。在此,输送带具有输送轮,所述输送轮由耐热的非金属的材料优选陶瓷。在输送带的背离涂层装置的一侧设置有加热机构和/或喷淋气体供应机构。 |
申请公布号 |
CN104080946A |
申请公布日期 |
2014.10.01 |
申请号 |
CN201280038501.8 |
申请日期 |
2012.07.26 |
申请人 |
吉布尔·施密德有限责任公司 |
发明人 |
C·施密德;D·哈贝尔曼;J·豪恩格斯;C·阿特马;T·斯图尔特;K·普罗文查 |
分类号 |
C23C16/458(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/458(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
周志明;杨国治 |
主权项 |
一种用于在衬底上制造薄层特别是用于制造太阳能电池的装置,带有:‑APCVD涂层装置(13),用于采用APCVD方法在高于250℃的温度情况下敷设薄层;‑带有输送轮(28)的水平的输送带(27),用于在连续运行中输送衬底,所述输送轮由耐热的非金属的材料构成;和‑设置在输送带的背离APCVD涂层装置的一侧的加热机构(14)和/或喷淋气体供应机构(34)。 |
地址 |
德国弗罗伊登斯塔特 |