| 发明名称 | 多晶金属氧化物图形的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种多晶金属氧化物图形的制备方法，对非晶金属氧化物膜层上的预定区域进行激光退火处理，使所述预定区域内的非晶金属氧化物转化为多晶金属氧化物；对所述预定区域外的所述非晶金属氧化物进行刻蚀处理，以去除所述预定区域外的所述非晶金属氧化物，本发明提供的技术方通过先激光退火处理以使预定区域内的非晶金属氧化物转化为多晶金属氧化物，然后再对预定区域外的非晶金属氧化物进行刻蚀，从而得到多晶金属氧化物图形，该制备方法生产工序简单，可有效的缩短生产周期，节约生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN104037060A | 申请公布日期 | 2014.09.10 |
| 申请号 | CN201410204209.X | 申请日期 | 2014.05.14 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 李梁梁;郭总杰;郭会斌;王守坤;冯玉春;刘晓伟 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;陈源 |
| 主权项 | 一种多晶金属氧化物图形的制备方法，其特征在于，包括：对非晶金属氧化物膜层上的预定区域进行激光退火处理，使所述预定区域内的非晶金属氧化物转化为多晶金属氧化物；对所述预定区域外的所述非晶金属氧化物进行刻蚀处理，以去除所述预定区域外的所述非晶金属氧化物。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||