一种解决高温下衬底原子蒸发影响平整度的方法及装置

摘要

本发明属于薄膜生长或薄膜制备领域，更确切地说涉及在衬底上进行沉积或喷镀等方法进行薄膜制备的领域以及类似装置。本发明的内容是提供一种解决高温下衬底原子流失影响平整度的设计方案；本发明利用加热装置(1)来加热衬底(2)至薄膜(3)生长所需的温度，在薄膜生长的过程中利用补偿蒸发源(4)来蒸发同衬底相同材料以补偿其在薄膜生长过程中因为热蒸发所流失的衬底表面材料(5)，从而有效避免衬底在高温下的蒸发造成的成膜形貌缺陷，可以生长出平整的、高质量的薄膜材料。

主权项

一种解决高温下衬底原子流失影响平整度的设计方案，其设计原理在于：在薄膜生长的过程中，通过在衬底反方向安置与衬底同材料蒸发源，来补偿由于高温造成的衬底表面原子流失，使衬底表面原子蒸发与吸收达到动态平衡；此时衬底的表面平整度可以在生长过程中保持平整，可有效避免衬底在高温下的蒸发造成的镀膜形貌缺陷，可以生长出平整的、高质量薄膜材料。