光阻组成物、光阻图型之形成方法、化合物;RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND COMPOUND

摘要

一种光阻组成物，其为经由曝光而产生酸，经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之光阻组成物，其特征为，含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，与由下述通式(d0)所表示之化合物所形成之光崩坏性抑制剂(D0)。;[式中，R 1 为可具有取代基之碳数4~20之烃基，Y 1 为单键或2价之键结基，R 2 及R 3 为各自独立之不为氟原子的碳数0~20之取代基，R 2 或R 3 之任一者，可与Y 1 形成环，M m+ 为m价之有机阳离子；m为1以上之整数]。